普雨科技(苏州)有限公司成立于2024年7月,总部位于江苏省苏州市苏州工业园区。公司致力于将纳米压印半导体光刻设备及相关技术推向市场,为集成电路、半导体和泛半导体行业提供领先的微纳制造解决方案。
公司拥有高素质的管理与技术团队,秉持创新引领未来的理念,对齐世界一流高科技企业的研发模式,持续为客户创造价值。
2024
30+
20
2024年成立
现有员工30余人
获得近20项专利
STPSENN 是一款纳米压印光刻的多功能平台,能够在基板上直接图案化复杂结构。该平台通过基板上的分配工艺,可精确控制抗蚀剂用量、残留层厚度及逐步工艺重复性,从而为增强现实波导、光学传感器、衍射光学元件、超表面和存储器的大规模生产提供全新的绿色工艺解决方案。
Meta Orion AR
硅光工艺结合
车规级芯片
逻辑存储芯片